[发明专利]一种基于拓扑光子高Q腔的MEMS压力传感器有效
申请号: | 202110971644.5 | 申请日: | 2021-08-24 |
公开(公告)号: | CN113639921B | 公开(公告)日: | 2023-05-12 |
发明(设计)人: | 郭芃;姜颖;邬俊杰;冯立辉;卢继华 | 申请(专利权)人: | 北京理工大学 |
主分类号: | G01L11/02 | 分类号: | G01L11/02;G01L9/08 |
代理公司: | 北京众元弘策知识产权代理事务所(普通合伙) 11462 | 代理人: | 宋磊 |
地址: | 100081 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: |
本发明涉及一种基于拓扑光子高Q腔的MEMS压力传感器,属于MEMS压力传感器技术领域。所述压力传感器为敏感元件,包含1个有序列光子晶体板的Si片梁;所述光子晶体板为正多边体且厚度范围为0.5um~0.6um,边长范围为20um~250um;所述光子晶体板上设有周期为519.25nm的圆孔阵列,圆孔半径为175nm;所述Si片梁工作时:激光器发出的光通过光环形器耦合到Si片梁上,环境压力的变化使Si片梁发生形变,从而影响信号光返回值,使光谱仪上光的波长值发生变化。所述传感器有效减少了平面外散射的影响,从而Q值很高,高达1×10 |
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搜索关键词: | 一种 基于 拓扑 光子 mems 压力传感器 | ||
【主权项】:
暂无信息
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