[发明专利]一种基于拓扑光子高Q腔的MEMS压力传感器有效

专利信息
申请号: 202110971644.5 申请日: 2021-08-24
公开(公告)号: CN113639921B 公开(公告)日: 2023-05-12
发明(设计)人: 郭芃;姜颖;邬俊杰;冯立辉;卢继华 申请(专利权)人: 北京理工大学
主分类号: G01L11/02 分类号: G01L11/02;G01L9/08
代理公司: 北京众元弘策知识产权代理事务所(普通合伙) 11462 代理人: 宋磊
地址: 100081 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明涉及一种基于拓扑光子高Q腔的MEMS压力传感器,属于MEMS压力传感器技术领域。所述压力传感器为敏感元件,包含1个有序列光子晶体板的Si片梁;所述光子晶体板为正多边体且厚度范围为0.5um~0.6um,边长范围为20um~250um;所述光子晶体板上设有周期为519.25nm的圆孔阵列,圆孔半径为175nm;所述Si片梁工作时:激光器发出的光通过光环形器耦合到Si片梁上,环境压力的变化使Si片梁发生形变,从而影响信号光返回值,使光谱仪上光的波长值发生变化。所述传感器有效减少了平面外散射的影响,从而Q值很高,高达1×106,探测灵敏度也高达2.17×106pm/kPa;具有结构简单、体积小、成本低及利于量产的优势。
搜索关键词: 一种 基于 拓扑 光子 mems 压力传感器
【主权项】:
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