[发明专利]一种磁流变抛光旁路控制的装置与方法、磁流变抛光设备在审
| 申请号： | 202110901071.9 | 申请日： | 2021-08-06 |
| 公开（公告）号： | CN113442003A | 公开（公告）日： | 2021-09-28 |
| 发明（设计）人： | 王道文 | 申请（专利权）人： | 华圭精密科技（东莞）有限公司 |
| 主分类号： | B24B1/00 | 分类号： | B24B1/00;B24B29/02;B24B51/00;B24B57/02 |
| 代理公司： | 成都行之智信知识产权代理有限公司 51256 | 代理人： | 陈令轩 |
| 地址： | 523000 广东省东莞*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明属于磁流变抛光技术领域。基于目前磁流变抛光设备，床身单元和磁流变抛光单元在控制方面存在不期望的深度耦合的问题，本发明提供一种磁流变抛光旁路控制的装置与方法、磁流变抛光设备，装置包括三工位旋转开关、机床单元电源、抛光单元电源Ⅰ、抛光单元电源Ⅱ；开关置于电源关位时，设备不工作；开关置于抛光位时，电源单元均通电，设备工作于抛光模式；开关置于旁路位时，机床单元电源、抛光单元电源Ⅰ断开，抛光单元电源Ⅱ通电，设备工作于旁路模式；旁路工作模式下，不进行抛光工艺，仅需对磁流变液循环更新。目的在于通过对磁流变抛光设备床身单元和抛光单元进行控制上的解耦设计，最大化实现可靠性工作、最大化节能、并延长装置寿命。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 流变 抛光 旁路 控制 装置 方法 设备 | ||
【主权项】：
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