[发明专利]一种低温等离子体技术制备氟改性硅负极的方法在审

专利信息
申请号: 202110890641.9 申请日: 2021-08-04
公开(公告)号: CN113659114A 公开(公告)日: 2021-11-16
发明(设计)人: 凌敏;甘露;梁成都 申请(专利权)人: 浙江大学
主分类号: H01M4/1395 分类号: H01M4/1395;H01M4/04;H01M4/134;H01M10/0525
代理公司: 杭州求是专利事务所有限公司 33200 代理人: 万尾甜;韩介梅
地址: 310058 浙江*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明公开了一种低温等离子体技术制备氟改性硅负极的方法,该方法包括以下步骤:制备硅负极,将硅材料、粘结剂、导电剂混合搅拌均匀,涂布在铜箔表面并烘干成硅极片,然后将所得硅极片放低温等离子设备中腔中,以一定气流速度通入四氟化碳气体,并调节低温等离子设备电压电流大小,处理一定时间后得到氟改性硅负极。本发明的制备方法简化了硅负极改性工艺过程,降低了加工成本,减少了环境污染,到达了节能减排的目的,具有工业化前景。该方法制备的氟改性硅负极具有较好的首圈库伦效率和循环稳定性,可满足动力电池的需求。
搜索关键词: 一种 低温 等离子体 技术 制备 改性 负极 方法
【主权项】:
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