[发明专利]基于位姿图调整的建图方法及相关设备在审

专利信息
申请号: 202110865352.3 申请日: 2021-07-29
公开(公告)号: CN113674411A 公开(公告)日: 2021-11-19
发明(设计)人: 王坤;林辉;卢维;殷俊;涂曙光 申请(专利权)人: 浙江大华技术股份有限公司
主分类号: G06T17/05 分类号: G06T17/05;G06T7/70
代理公司: 深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙) 44280 代理人: 黎坚怡
地址: 310051 浙江*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 本申请提供了一种基于位姿图调整的建图方法及相关设备。该方法包括:获取点云地图中错误点云数据的拟合线段以及目标线段,并确认拟合线段和目标线段之间的调整模式;确定拟合线段附近点云对应的拟合位姿序列,以及目标线段附近点云对应的目标位姿序列;基于调整模式、拟合位姿序列以及目标位姿序列,确定目标位姿序列所在的新闭环约束;利用新闭环约束对位姿图中的所有闭环约束进行优化处理,得到优化后的多个闭环约束,以基于优化后的多个闭环约束重构目标地图。本申请提高了建图一致性。
搜索关键词: 基于 位姿图 调整 方法 相关 设备
【主权项】:
暂无信息
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