[发明专利]像素结构、像素结构的制作方法及阵列基板在审
| 申请号： | 202110860530.3 | 申请日： | 2021-07-28 |
| 公开（公告）号： | CN113534528A | 公开（公告）日： | 2021-10-22 |
| 发明（设计）人： | 乔传兴;蔡昌宇;颜金成;赵约瑟 | 申请（专利权）人： | 深圳莱宝高科技股份有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1335 | 分类号： | G02F1/1335;G02F1/1368;G02F1/1362 |
| 代理公司： | 深圳中一联合知识产权代理有限公司 44414 | 代理人： | 赵智博 |
| 地址： | 518000 广东省深圳*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明属于平板显示技术领域，尤其涉及一种像素结构、像素结构的制作方法及阵列基板。通过在反射基底层上设有漫反射结构和镜面反射结构，且反射层覆盖于漫反射结构和镜面反射结构上，并呈现出对应漫反射结构和镜面反射结构的形状，入射光照射到反射层对应漫反射结构位置时，反射层对入射光进行漫反射；入射光照射到反射层对应镜面反射结构位置时，反射层对入射光进行镜面反射。因此，实现了对光的漫反射和镜面反射功能，从而使用该结构的显示装置具有高反射率，漫反射和镜面反射有利于增大侧向的可视角度，且无需在使用背光源结构，降低了整体功耗和节约了成本，同时产品还保留本身宽视角，高对比度的优点。 | ||
| 搜索关键词： | 像素 结构 制作方法 阵列 | ||
【主权项】：
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