[发明专利]一种高均匀性的磁控溅射镀膜用阴极平台在审
| 申请号： | 202110837294.3 | 申请日： | 2021-07-23 |
| 公开（公告）号： | CN113718214A | 公开（公告）日： | 2021-11-30 |
| 发明（设计）人： | 匡国庆 | 申请（专利权）人： | 镇江市德利克真空设备科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 镇江基德专利代理事务所(普通合伙) 32306 | 代理人： | 刘兰 |
| 地址： | 212216 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及磁控溅射镀膜技术领域，且公开了一种高均匀性的磁控溅射镀膜用阴极平台，解决了现有平面阴极的磁靴位置无法进行调节而造成靶材浪费以及影响镀膜效果的问题，其包括安装板和阴极体本体，所述安装板的一侧开设有第一竖槽，第一竖槽的内部转动安装有螺纹轴，螺纹轴的表面螺纹连接有移动块，移动块滑动卡接在第一竖槽的内部，且移动块的一端延伸至安装板的一侧外并固定安装有安装条，安装条的顶部安装有移动板，阴极体本体安装在移动板的顶部，第一竖槽的一侧开设有第一内竖槽；本高均匀性的磁控溅射镀膜用阴极平台能够有效的进行移动调节，从而使磁靴位置能够有效的进行改变，使靶材能够最大程度的被使用，以及能够提高镀膜的效果。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 均匀 磁控溅射 镀膜 阴极 平台 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于镇江市德利克真空设备科技有限公司，未经镇江市德利克真空设备科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202110837294.3/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
