[发明专利]一种高均匀性的磁控溅射镀膜用阴极平台

说明书

本发明涉及磁控溅射镀膜技术领域，且公开了一种高均匀性的磁控溅射镀膜用阴极平台，解决了现有平面阴极的磁靴位置无法进行调节而造成靶材浪费以及影响镀膜效果的问题，其包括安装板和阴极体本体，所述安装板的一侧开设有第一竖槽，第一竖槽的内部转动安装有螺纹轴，螺纹轴的表面螺纹连接有移动块，移动块滑动卡接在第一竖槽的内部，且移动块的一端延伸至安装板的一侧外并固定安装有安装条，安装条的顶部安装有移动板，阴极体本体安装在移动板的顶部，第一竖槽的一侧开设有第一内竖槽；本高均匀性的磁控溅射镀膜用阴极平台能够有效的进行移动调节，从而使磁靴位置能够有效的进行改变，使靶材能够最大程度的被使用，以及能够提高镀膜的效果。

技术领域

本发明属于磁控溅射镀膜技术领域，具体为一种高均匀性的磁控溅射镀膜用阴极平台。

背景技术

真空镀膜是一种在真空中制备膜层产生薄膜材料的技术，有三种形式，即蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀，其中溅射镀膜是真空镀膜中最主要的方法，磁控溅射镀膜是指将涂层材料做为靶阴极，利用氩离子轰击靶材，产生阴极溅射，把靶材原子溅射到工件上形成沉积层的一种镀膜技术，涂层材料一直保持固态，不形成熔池。

目前采用的平面磁控溅射阴极(即“平面阴极”)，其(即“平面阴极”)均是采用在磁靴中安装磁铁的方法来获得加速磁场，但其磁靴位置无法进行调节，从而造成靶材的浪费，以及无法保证最佳的镀膜效果；因此，针对目前的状况，现需对其进行改进。

发明内容

针对上述情况，为克服现有技术的缺陷，本发明提供一种高均匀性的磁控溅射镀膜用阴极平台，有效的解决了现有平面阴极的磁靴位置无法进行调节而造成靶材浪费以及影响镀膜效果的问题。

为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：一种高均匀性的磁控溅射镀膜用阴极平台，包括安装板和阴极体本体，所述安装板的一侧开设有第一竖槽，第一竖槽的内部转动安装有螺纹轴，螺纹轴的表面螺纹连接有移动块，移动块滑动卡接在第一竖槽的内部，且移动块的一端延伸至安装板的一侧外并固定安装有安装条，安装条的顶部安装有移动板，阴极体本体安装在移动板的顶部，第一竖槽的一侧开设有第一内竖槽，第一内竖槽的一侧开设有L形竖槽，第一内竖槽的一端开设有第二内竖槽，第二内竖槽的内部且位于安装板的另一侧开设有第二竖槽，L形竖槽的内部安装有L形升降块，L形升降块的一端与第二内竖槽的内部之间安装有Z形连接块，Z形连接块的一端安装有手动调节组件，第一内竖槽的底部安装有传动组件，传动组件传动连接在手动调节组件与螺纹轴之间。

优选的，所述手动调节组件包括转动轴，转动轴转动安装在Z形连接块的一端，且转动轴的一端贯穿第二竖槽并延伸至安装板另一侧外，且转动轴的一端固定安装有第一转轮，转动轴的一侧和另一端分别固定安装有第一齿轮和第一锥齿轮。

优选的，所述传动组件包括转动销，转动销转动安装在第一内竖槽底部的中部，且转动销的底部固定安装有第二齿轮，转动销的顶部固定安装有第二锥齿轮，第二锥齿轮与第一锥齿轮啮合传动连接，螺纹轴的底部固定安装有第三齿轮，第三齿轮与第二齿轮啮合连接。

优选的，所述第一齿轮的斜上方设有第四齿轮，移动块的一侧开设有安装槽，安装槽的内部转动安装有转动杆，第四齿轮固定安装在转动杆的表面且位于安装槽的内部。

优选的，所述转动杆的一端安装有第五齿轮，安装条的顶部安装有开设有移动卡槽，转动杆的一端延伸至移动卡槽的内部，且第五齿轮位于移动卡槽的内部，移动板底部的中部安装有齿条，第五齿轮与齿条啮合连接，移动卡槽两侧的上部均开设有轮槽，移动板底部的两侧均安装有竖板，两个竖板一侧的下部均等距离安装有滚轮，滚轮滚动安装在轮槽的内部。

优选的，所述移动卡槽的两端均设有限位挡板，两个限位挡板的顶部与移动板底部的两端固定连接。

优选的，所述L形竖槽的内部转动安装有螺纹杆，L形升降块螺纹连接在螺纹杆的表面，且螺纹杆的顶部延伸至安装板的上方并固定安装有第二转轮。