[发明专利]一种微透镜阵列的制备方法及晶圆在审
| 申请号： | 202110826074.0 | 申请日： | 2021-07-21 |
| 公开（公告）号： | CN113419301A | 公开（公告）日： | 2021-09-21 |
| 发明（设计）人： | 焦继伟;陈思奇 | 申请（专利权）人： | 上海芯物科技有限公司 |
| 主分类号： | G02B3/00 | 分类号： | G02B3/00;G03F7/00;H01S5/02253;H01S5/183 |
| 代理公司： | 北京晋德允升知识产权代理有限公司 11623 | 代理人： | 王戈;郑玢 |
| 地址： | 201800 上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本说明书实施例公开了一种微透镜阵列的制备方法，用于在晶圆表面制备微透镜阵列，包括：在所述晶圆表面形成SU‑8光刻胶层；在所述SU‑8光刻胶层的表面形成正性光刻胶微柱阵列；对所述正性光刻胶微柱阵列进行热回流处理，以在所述SU‑8光刻胶层的表面形成非球面形状结构阵列，所述非球面形状结构阵列作为所述SU‑8光刻胶层的刻蚀掩膜；对所述SU‑8光刻胶层和所述非球面形状结构阵列进行刻蚀，直至去除所述非球面形状结构阵列，以将所述非球面形状结构阵列的形状转移至所述SU‑8光刻胶层的表面上，从而在所述晶圆表面形成SU‑8材质的微透镜阵列。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 透镜 阵列 制备 方法 | ||
【主权项】：
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