[发明专利]一种低粗糙度离型膜基膜及其制备方法有效
| 申请号： | 202110811629.4 | 申请日： | 2021-07-19 |
| 公开（公告）号： | CN113524848B | 公开（公告）日： | 2023-06-13 |
| 发明（设计）人： | 梁雪芬;夏毅;李超;蒙钊;孙萌;吕建峰;胡婧 | 申请（专利权）人： | 江苏裕兴薄膜科技股份有限公司 |
| 主分类号： | B32B27/36 | 分类号： | B32B27/36;B32B27/06;B32B27/20;B29C48/00;B29C48/08;B29C48/21;C08J5/18;C08L67/02;C08K3/36;C08K3/22;C08K3/26;C08K3/30;C08K3/34 |
| 代理公司： | 常州市权航专利代理有限公司 32280 | 代理人： | 刘洋 |
| 地址： | 213000 江苏省常*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明涉及聚酯薄膜技术领域，尤其涉及一种低粗糙度离型膜基膜及其制备方法。目前国内生产的聚酯薄膜表面粗糙度Rz、Rmax值较大，Rz与Ra的比值较高，聚酯薄膜的表面粗糙度和粗糙度波动较大，严重影响聚酯薄膜在高端光电显示行业的应用。基于上述问题，本发明提供一种低粗糙度离型膜基膜，包括ABA三层共挤薄膜，其A层材料成分中包括表面改性母料Ⅰ和表面改性母料Ⅱ，所述表面改性母料Ⅱ可以使聚酯薄膜获得较好的光学性能、加工稳定性和较低的表面粗糙度，所述表面改性母料Ⅰ可以有效填补表面改性母料Ⅱ产生的表面轮廓起伏，减小粗糙度的波动范围。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 粗糙 度离型膜基膜 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
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