[发明专利]雾化装置与薄膜沉积系统在审
申请号: | 202110807467.7 | 申请日: | 2021-07-16 |
公开(公告)号: | CN115613005A | 公开(公告)日: | 2023-01-17 |
发明(设计)人: | 张喜玲 | 申请(专利权)人: | 长鑫存储技术有限公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455;H01L21/67 |
代理公司: | 华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人: | 周修文 |
地址: | 230601 安徽省合肥市*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | 本发明涉及一种雾化装置与薄膜沉积系统,雾化装置包括主体、震荡模组及光热模组。主体设有主腔室,主体还设有与主腔室相连通的进气接头与出气接头。进气接头用于与载气管相连通,出气接头用于与反应腔室的进气口相连通。出气接头通过对接管与反应腔室连通。震荡模组设有进样口与出样口,进样口用于与样品管相连通,出样口用于与主腔室相连通。震荡模组用于对进入震荡模组内部的反应液进行震荡处理,以使得反应液雾化形成气溶胶。光热模组设置于主腔室的壁上,光热模组用于对主腔室进行加热升温处理,以使得通过震荡模组进入到主腔室内的反应液雾化形成气溶胶,能提高薄膜的制备效率,工作温度能得到精确控制且波动范围较小,受热均匀。 | ||
搜索关键词: | 雾化 装置 薄膜 沉积 系统 | ||
【主权项】:
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的