[发明专利]一种利用SEM review图像分析晶圆面内CD均一性的方法在审
| 申请号: | 202110788969.X | 申请日: | 2021-07-13 |
| 公开(公告)号: | CN113643237A | 公开(公告)日: | 2021-11-12 |
| 发明(设计)人: | 郭扬扬;龚寒琴 | 申请(专利权)人: | 上海华力集成电路制造有限公司 |
| 主分类号: | G06T7/00 | 分类号: | G06T7/00;G06T7/62;H01L21/66 |
| 代理公司: | 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 | 代理人: | 戴广志 |
| 地址: | 201203 上海市浦*** | 国省代码: | 上海;31 |
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| 摘要: | 本发明提供一种利用SEM review图像分析晶圆面内CD均一性的方法,提供SEM review机台;利用SEM review机台的拍摄功能,对晶圆上待量测CD区域拍摄包含多个图形结构的多张照片;利用光谱拟合的图形处理方法将每张所述照片上的待量测CD区域的多个图形结构进行CD量测;光谱拟合的图形处理方法基于图形结构最宽两边的灰度不同抓取图形结构上最宽区域的两点;并且量测该两点之间的距离,该距离作为图形结构所需量测的CD值。本发明利用SEM review机台相比传统量测CD的机台,能够更快速的收集大量图形的图像,之后通过后期的图形处理,可以在一张图形内获得更多的图形的尺寸,能够监控的位置更多,对工艺的改善有很大帮助,同时节约大量量测机时。 | ||
| 搜索关键词: | 一种 利用 sem review 图像 分析 晶圆面内 cd 均一 方法 | ||
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