[发明专利]具有用于重定向光的非对称光栅的超表面及其制造方法在审
| 申请号： | 202110788459.2 | 申请日： | 2017-05-05 |
| 公开（公告）号： | CN113484944A | 公开（公告）日： | 2021-10-08 |
| 发明（设计）人： | 林滇敏;M·梅利;P·圣西莱尔;C·佩罗兹;E·Y·波利亚科夫 | 申请（专利权）人： | 奇跃公司 |
| 主分类号： | G02B5/18 | 分类号： | G02B5/18;G02B1/00;G02B5/30;G02B27/01;G02B30/35;H04N13/344;H04N13/349 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人： | 贺月娇;于静 |
| 地址： | 美国佛*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及具有用于重定向光的非对称光栅的超表面及其制造方法。一种光学系统包括光学透射基板，光学透射基板包括超表面，超表面包括光栅，光栅包括多个单位基元。每个单位基元包括具有第一宽度的横向伸长的第一纳米梁；以及与第一纳米梁隔开一间隙的横向伸长的第二纳米梁，第二纳米梁具有大于第一宽度的第二宽度。单位基元的间距为10nm至1μm。第一和第二纳米梁的高度为：在基板的透射率大于3.3的情况下，10nm至450nm；以及在所述折射率为3.3或更小的情况下，10nm至1μm。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 用于 定向 对称 光栅 表面 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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