[发明专利]电子轰击离子源及离子化方法在审
申请号: | 202110776172.8 | 申请日: | 2021-07-09 |
公开(公告)号: | CN113921371A | 公开(公告)日: | 2022-01-11 |
发明(设计)人: | 杨天祥;刘立鹏;段炼;马乔;王海东;韩双来;邓嘉辉 | 申请(专利权)人: | 杭州谱育科技发展有限公司 |
主分类号: | H01J49/14 | 分类号: | H01J49/14;H01J49/20;H01J49/26 |
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地址: | 311305 浙江省杭州市*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本发明提供了电子轰击离子源及离子化方法,所述电子轰击离子源包括:第一电磁铁和第二电磁铁相对设置;第一电磁铁、第一灯丝、第二灯丝和第二电磁铁依次设置;电源调整所述第一灯丝、第二灯丝、第一电磁铁和第二电磁铁的供电参数,使得当所述第一灯丝发射电子时,从所述第一灯丝到所述第二灯丝的第一磁场的方向与第二磁场的方向相同,所述第二磁场的方向是当所述第二灯丝发射电子时,从所述第二灯丝到所述第一灯丝的磁场方向。本发明具有离子出射稳定、切换效率高等优点。 | ||
搜索关键词: | 电子 轰击 离子源 离子化 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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