[发明专利]电子轰击离子源及离子化方法

权利要求书

1.电子轰击离子源，其特征在于，所述电子轰击离子源包括：

第一电磁铁和第二电磁铁，所述第一电磁铁和第二电磁铁相对设置；

第一灯丝和第二灯丝，所述第一电磁铁、第一灯丝、第二灯丝和第二电磁铁依次设置；

电源，所述电源调整所述第一灯丝、第二灯丝、第一电磁铁和第二电磁铁的供电参数，使得当所述第一灯丝发射电子时，从所述第一灯丝到所述第二灯丝的第一磁场的方向与第二磁场的方向相同，所述第二磁场的方向是当所述第二灯丝发射电子时，从所述第二灯丝到所述第一灯丝的磁场方向。

2.根据权利要求1所述电子轰击离子源，其特征在于，所述第一电磁铁和第二电磁铁的位置相对的侧面均为内凹面。

3.根据权利要求1或2所述的电子轰击离子源，其特征在于，所述电子轰击离子源还包括：

离子透镜，所述第一灯丝和第二灯丝关于所述离子透镜的中心轴线对称设置，所述第一电磁铁和第二电磁铁关于所述中心轴线对称。

4.根据权利要求1所述的电子轰击离子源，其特征在于，所述电子轰击离子源还包括：

电压检测模块，所述电压检测模块用于获得第一灯丝和第二灯丝的实时工作电压；

存储器，所述存储器用于存储映射关系，所述映射关系是与选择的离子峰强度分别对应的灯丝工作电压U和电磁铁控制电压V间的对应关系；

计算器，所述计算器用于根据灯丝的实时工作电压以及所述映射关系得到电磁铁的实时控制电压；

控制器，所述控制器用于电磁铁的控制电压调整到所述实时控制电压，使得得到的离子峰强度达到所述选择的离子峰强度。

5.根据权利要求4所述的电子轰击离子源，其特征在于，所述映射关系是：

任一数组(U_i，V_i)与选择的离子峰强度对应。

6.根据权利要求1所述的电子轰击离子源，其特征在于，第一电磁铁的磁场和第二电磁铁的磁场相互排斥，或者相互吸引。

7.根据权利要求1所述的电子轰击离子源，其特征在于，当所述第一灯丝发射电子时，所述第二灯丝接收电子；当所述第二灯丝发射电子时，所述第一灯丝接收电子。

8.基于电子轰击离子源的离子化方法，所述离子化方法为：

第一灯丝发射电子，电子撞击待测样品分子，第二灯丝接收电子，产生的离子从离子透镜出射，得到离子峰强度；第一电磁铁、第一灯丝、第二灯丝和第二电磁铁依次设置；

获得所述第一灯丝的实时工作电压，根据所述实时工作电压以及映射关系得到第一电磁铁和第二电磁铁的实时控制电压，将所述第一电磁铁和第二电磁铁的控制电压调整到所述实时控制电压，使得到的离子峰强度达到设定强度；所述映射关系是灯丝工作电压和电磁铁控制电压间的对应关系；

若第一灯丝的实时工作电压增大到阈值，切换灯丝，所述第一灯丝停止发射电子，所述第二灯丝发射电子，所述第一灯丝接收电子；

当所述第一灯丝发射电子时，从所述第一灯丝到所述第二灯丝的第一磁场的方向与第二磁场的方向相同，所述第二磁场的方向是当所述第二灯丝发射电子时，从所述第二灯丝到所述第一灯丝的磁场方向。

9.根据权利要求8所述的离子化方法，其特征在于，所述第一灯丝和第二灯丝关于所述离子透镜的中心轴线对称设置，所述第一电磁铁和第二电磁铁关于所述中心轴线对称。

10.根据权利要求8所述的离子化方法，其特征在于，所述映射关系是：

任一数组(U_i，V_i)与选择的离子峰强度对应。