[发明专利]一种集成电路封装后去除溢料设备在审
申请号: | 202110770562.4 | 申请日: | 2021-07-08 |
公开(公告)号: | CN113471110A | 公开(公告)日: | 2021-10-01 |
发明(设计)人: | 生升 | 申请(专利权)人: | 生升 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 518000 广东省深圳市罗湖区清水河*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了一种集成电路封装后去除溢料设备,其结构包括下机箱、上机箱、操作门、预存箱,下机箱上方焊接连接有上机箱,操作门铰链连接在上机箱正面,预存箱安装在下机箱内部;本发明的预存箱,可以将经过高压水流处理过的集成电路芯片统一收集起来,并且引导水流排出,将芯片表面大部分的水分清除,避免集成电路芯片长时间处于液体的浸泡中,导致芯片受损,本发明的储存装置,可以将每个集成电路芯片统一收集起来,并且将每个收集起来的芯片进行暂时的全方位包裹的单独封装,避免了集成电路芯片较长并且尖锐的引脚相互纠缠、互相划伤表面,损坏引脚,造成成品瑕疵。 | ||
搜索关键词: | 一种 集成电路 封装 去除 设备 | ||
【主权项】:
暂无信息
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造