[发明专利]光学系统和操作光刻曝光设备的方法在审
| 申请号： | 202110718673.0 | 申请日： | 2016-07-05 |
| 公开（公告）号： | CN113589655A | 公开（公告）日： | 2021-11-02 |
| 发明（设计）人： | W.B.J.哈克福特;R.P.霍杰沃尔斯特;P.T.罗格斯;K.希尔德;T.格鲁纳 | 申请（专利权）人： | 卡尔蔡司SMT有限责任公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 王蕊瑞 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 公开了一种光学系统以及操作光刻曝光设备的方法。所述光学系统包含至少一个反射镜布置，其包括多个反射镜元件，其邻近布置并且共同形成反射镜布置的反射镜表面。反射镜的多层布置包含反射层系统和压电层，该反射层系统具有形成反射镜表面的部分的辐射入射表面，该压电层布置在辐射入射表面和基板之间。每个反射镜元件包括与压电层相关联的电极布置，以产生电场，其中压电层的层厚度可以通过电场控制。提供将邻近的电极布置的邻近的第一电极和第二电极电互连的互连布置，其中互连布置在所述第一电极和第二电极之间的间隙区域中的电阻大于所述第一电极和第二电极的电阻，并且小于具有所述第一电极和第二电极的所述邻近的电极布置的压电层的电阻。 | ||
| 搜索关键词： | 光学系统 操作 光刻 曝光 设备 方法 | ||
【主权项】：
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