[发明专利]可改善填充均匀性的离子化PVD设备有效
| 申请号： | 202110707392.5 | 申请日： | 2021-06-25 |
| 公开（公告）号： | CN113249701B | 公开（公告）日： | 2021-10-01 |
| 发明（设计）人： | 周云;宋维聪 | 申请（专利权）人： | 上海陛通半导体能源科技股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/54 |
| 代理公司： | 上海光华专利事务所(普通合伙) 31219 | 代理人： | 卢炳琼 |
| 地址： | 201201 上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供一种可改善填充均匀性的离子化PVD设备，包括腔体、溅射组件、基座和离子调节器；溅射组件位于腔体顶部，基座位于腔体内，离子调节器位于腔体内，且位于溅射组件和基座之间；离子调节器包括多个磁场调节单元，多个磁场调节单元相互间隔，并以腔体的中心为中心向外呈放射状分布；磁场调节单元包括片状磁铁和电磁线圈中的一种，片状磁铁的表面磁场强度沿远离腔体中心的方向逐渐增强，且相邻的片状磁铁的磁极面的磁性相反，本发明经改善的结构设计，在离子调节器的磁场调节单元之间的扇形间隙内形成逆时针方向的水平磁场而产生作用力，可使金属阳离子从扇形间隙的中间和半中间区域向边缘区域移动，由此可提高边缘离子浓度和深孔填充均匀性。 | ||
| 搜索关键词： | 改善 填充 均匀 离子化 pvd 设备 | ||
【主权项】：
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