[发明专利]微流制冷通道的制作方法以及芯片在审

专利信息
申请号: 202110705750.9 申请日: 2021-06-24
公开(公告)号: CN113629024A 公开(公告)日: 2021-11-09
发明(设计)人: 黄立;马占锋;高健飞;黄晟;王春水;叶帆 申请(专利权)人: 武汉高芯科技有限公司
主分类号: H01L23/367 分类号: H01L23/367;H01L23/46;H01L23/473
代理公司: 北京汇泽知识产权代理有限公司 11228 代理人: 胡建文
地址: 430205 湖北省武*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明涉及一种微流制冷通道的制作方法,包括:在待制冷基材上形成牺牲层;根据微流制冷通道的设计形状,图形化牺牲层;在牺牲层上沉积盖面层;释放牺牲层,盖面层立于待制冷基材上并与待制冷基材围设形成微流制冷通道。另外还涉及基于该方法集成有微流制冷通道的芯片。本发明采用MEMS微加工工艺将微流制冷通道集成在待制冷基材上,工艺简单、易于实现,适于与传统的半导体工艺兼容,芯片与通道材料之间不会产生内应力、粘附力等以及不会对芯片造成电学等影响,保持芯片的正常功能和性能。制作的微流制冷通道更贴近发热源,能实现针对性地制冷设计,制冷效果可靠、能耗低,所需的空间较小,能较好地满足芯片制冷要求。
搜索关键词: 制冷 通道 制作方法 以及 芯片
【主权项】:
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