[发明专利]相位对焦像素结构、图像传感器、电子设备及制备方法在审

专利信息
申请号: 202110688805.X 申请日: 2021-06-21
公开(公告)号: CN115579367A 公开(公告)日: 2023-01-06
发明(设计)人: 张盛鑫 申请(专利权)人: 思特威(上海)电子科技股份有限公司
主分类号: H01L27/146 分类号: H01L27/146
代理公司: 上海汉声知识产权代理有限公司 31236 代理人: 胡晶
地址: 201203 上海市浦东新区中国(上*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明提供一种相位对焦像素结构、图像传感器、电子设备及制备方法,像素结构包括:位于基底中的若干个像素区,位于基底中的第一隔离区和第二隔离区,二者将像素区划分为至少两个子像素区,以基于子像素区实现相位对焦,且第二隔离区包括离子掺杂隔离区。本发明通过在实现相位对焦的子像素区之间引入离子掺杂隔离区,有利于提高相位对焦速度及对焦效果;本发明还可以基于离子掺杂隔离区和背面深沟槽隔离区实现相位对焦像素的分离,通过对离子掺杂隔离区和背面深沟槽隔离区进行不同组合的设计,可以根据实际需要选择不同性能侧重点的设计,从而提升像素单元的整体性能。本发明的设计易于实现,与现有的半导体制作流程兼容,无需额外的工艺开发。
搜索关键词: 相位 对焦 像素 结构 图像传感器 电子设备 制备 方法
【主权项】:
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