[发明专利]超掺杂硅薄膜太阳能电池及其制作方法有效

专利信息
申请号: 202110656358.X 申请日: 2021-06-11
公开(公告)号: CN113257957B 公开(公告)日: 2022-08-23
发明(设计)人: 温才;陈凯;陈青;刘德雄;杨永佳;李同彩;李晓红;唐金龙;石中奇 申请(专利权)人: 四川蜀旺新能源股份有限公司
主分类号: H01L31/18 分类号: H01L31/18;H01L31/068
代理公司: 成都中玺知识产权代理有限公司 51233 代理人: 任洁;谭昌驰
地址: 621000 四川省绵*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 发明提供了一种超掺杂硅薄膜太阳能电池及其制作方法,涉及太阳能电池技术领域。所述制作方法包括电极掩膜,将硅基太阳能电池作为衬底进行电极掩模后置入真空镀膜机的真空室中;抽真空,对真空室抽真空处理;镀膜,蒸发硅颗粒和过渡金属粉末或颗粒在衬底上形成厚度为0.05~1μm的混合薄膜;掺杂,待衬底冷却后,取出衬底置入保护气氛中,使用高重复频率纳秒激光熔融混合薄膜形成等间距条状半导体掺杂层。本发明还提供了一种超掺杂硅薄膜太阳能电池,其使用上述方法制得。本发明的有益效果可包括:能够制作对全光谱产生光电效应的太阳能电池;使用过渡金属作为掺入的杂质来进行硅的超掺杂,光电转换效率提升。
搜索关键词: 掺杂 薄膜 太阳能电池 及其 制作方法
【主权项】:
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