[发明专利]一种终端结构、半导体器件及制作方法有效

专利信息
申请号: 202110651512.4 申请日: 2021-06-10
公开(公告)号: CN113299744B 公开(公告)日: 2022-04-15
发明(设计)人: 李伟聪;林泳浩;姜春亮;王雯沁 申请(专利权)人: 珠海市浩辰半导体有限公司
主分类号: H01L29/40 分类号: H01L29/40
代理公司: 深圳市嘉勤知识产权代理有限公司 44651 代理人: 帅进军
地址: 519000 广东省珠海市高新*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 本申请公开了一种终端结构、半导体器件及制作方法,终端结构包括第一导电类型的漂移区,漂移区设置有沟槽、第一导电类型的掺杂区和第二导电类型的第一体区,沟槽包括第一深度区、第二深度区和第三深度区;第一深度区填充介电材料,介电材料中插入第一电极,第二深度区设置有第一多晶硅场板;第一多晶硅场板和第一电极连接第二电极,第三深度区设置有第二多晶硅场板,掺杂区和第二多晶硅场板上设置截止环。该终端结构,第一多晶硅场板防止第一体区与漂移区形成的PN结被提前击穿,第一电极防止第一深度区的底部角落处被提前击穿,第二多晶硅场板防止击穿发生在截止环。该结构在提升终端结构耐压的同时,使终端结构的面积减小。
搜索关键词: 一种 终端 结构 半导体器件 制作方法
【主权项】:
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