[发明专利]梯度渐变微纳米光学结构制备方法及其结构有效
| 申请号： | 202110613851.3 | 申请日： | 2021-06-02 |
| 公开（公告）号： | CN113514912B | 公开（公告）日： | 2022-12-02 |
| 发明（设计）人： | 孙朝阳;朱振东;王雪深 | 申请（专利权）人： | 中国计量科学研究院 |
| 主分类号： | G02B5/18 | 分类号： | G02B5/18;G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 北京华进京联知识产权代理有限公司 11606 | 代理人： | 马云超 |
| 地址： | 100029 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本申请涉及一种梯度渐变微纳米光学结构制备方法及其结构。梯度渐变微纳米光学结构制备方法包括：提供衬底；于衬底表面旋涂光刻胶膜层；根据光刻掩模版，对光刻胶膜层进行第一次光刻，形成多个光刻胶结构；采用回流工艺对多个光刻胶结构进行处理，形成多个梯度渐变光刻胶结构；对多个梯度渐变光刻胶结构进行第二次光刻，形成多个梯度光刻胶微结构；采用压印工艺，将多个梯度光刻胶微结构的结构形状进行转移，形成多个梯度渐变微结构模具；根据多个梯度渐变微结构模具，制备形成梯度渐变微纳米光学结构，可以满足梯度渐变高分辨率微纳米结构的加工需求，解决了梯度渐变的纳米光栅、梯度渐变的超表面、梯度等效折射率的纳米光电器件加工难题。 | ||
| 搜索关键词： | 梯度 渐变 纳米 光学 结构 制备 方法 及其 | ||
【主权项】：
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