[发明专利]沟槽IGBT芯片版图结构在审
| 申请号: | 202110603168.1 | 申请日: | 2021-05-31 |
| 公开(公告)号: | CN113363252A | 公开(公告)日: | 2021-09-07 |
| 发明(设计)人: | 曹功勋;郎金荣;刘建华 | 申请(专利权)人: | 上海积塔半导体有限公司 |
| 主分类号: | H01L27/02 | 分类号: | H01L27/02 |
| 代理公司: | 上海光华专利事务所(普通合伙) 31219 | 代理人: | 贺妮妮 |
| 地址: | 200120 *** | 国省代码: | 上海;31 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | 本发明提供一种沟槽IGBT芯片版图结构,包括:若干个沿互相垂直的第一方向及第二方向排布的沟槽型IGBT芯片;每个沟槽型IGBT芯片包括一个元胞结构,每个元胞结构中形成有若干条互相平行的栅沟槽,且栅沟槽的方向沿第一方向或第二方向;沿第一、第二方向排布的相邻两个沟槽型IGBT芯片的栅沟槽的方向互相垂直。通过将晶圆上IGBT芯片栅沟槽在第一方向和第二方向均呈现纵横交错的分布,纵向栅沟槽中填充的栅多晶硅使晶圆向下翘曲,横向栅沟槽中填充的栅多晶硅使晶圆向上翘曲,纵横交错的栅沟槽,使压应力和张应力相互抵消,从而在不改变工艺和增加成本的基础上有效改善沟槽IGBT芯片在制造过程中晶圆翘曲问题。 | ||
| 搜索关键词: | 沟槽 igbt 芯片 版图 结构 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海积塔半导体有限公司,未经上海积塔半导体有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202110603168.1/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种异地多活系统的实现方法
- 下一篇:一种义齿回收设备
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的





