[发明专利]一种ITO靶材溅射后残靶再利用的制备工艺在审
| 申请号： | 202110592901.4 | 申请日： | 2021-05-28 |
| 公开（公告）号： | CN113292345A | 公开（公告）日： | 2021-08-24 |
| 发明（设计）人： | 王志强;曾墩风;曾探;盛明亮 | 申请（专利权）人： | 芜湖映日科技股份有限公司 |
| 主分类号： | C04B35/622 | 分类号： | C04B35/622;C04B35/626;C04B35/01;C23C14/34 |
| 代理公司： | 南京正联知识产权代理有限公司 32243 | 代理人： | 杨静 |
| 地址： | 241000 安徽省芜湖市中国(安徽)自*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明提供一种ITO靶材溅射后残靶再利用的制备工艺，通过解绑‑加热‑冷淬‑粉碎‑球磨‑造粒‑成型‑烧结‑机加工‑绑定来进行回收再利用，其中加热到500‑1400℃之后的残靶放入10‑20℃超纯水中冷淬，使残靶热胀冷缩，碎裂成小块，再投入气流粉碎机中，粉碎，过100‑200目筛网，得到ITO残靶粉末，再进行湿式研磨造粒得到的粉末流动性好，再利用率高，回收再利用效果好。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 ito 溅射 后残靶 再利用 制备 工艺 | ||
【主权项】：
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