[发明专利]高价态金属离子掺杂富含氧空位的氧化钴纳米复合材料及其制备与应用有效

专利信息
申请号: 202110575237.2 申请日: 2021-05-26
公开(公告)号: CN113502494B 公开(公告)日: 2022-06-21
发明(设计)人: 郑灵霞;杨鹏举;郑华均;王永智 申请(专利权)人: 浙江工业大学
主分类号: C25B11/031 分类号: C25B11/031;C25B11/052;C25B11/061;C25B11/091;C25B1/04
代理公司: 杭州天正专利事务所有限公司 33201 代理人: 黄美娟;朱思兰
地址: 310014 浙江省杭*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 一种高价态金属离子掺杂富含氧空位的氧化钴纳米复合材料,制备方法为:将钴盐与金属M盐(M=Mo或W)的混合水溶液与尿素水溶液混合,得到前驱体溶液,加入经预处理的泡沫镍基底,于90~160℃反应1~12h,在泡沫镍基底上得到前驱体材料,将其与NaBH4放入管式炉中,在惰性气体保护下升温至300~350℃煅烧2~9h,即得;本发明采用金属阳离子掺杂和引入氧空位的方式,有效调控材料电子结构和载流子浓度,提高材料的本征电导率和氧化还原反应的多样性;还进一步调节了复合纳米材料的微观形貌,增加其比表面积,有效的缩短离子的传输路径;采用该类材料作为析氧反应电极,在碱性体系中表现出优异的析氧催化性能和稳定性。
搜索关键词: 高价 金属 离子 掺杂 富含 空位 氧化钴 纳米 复合材料 及其 制备 应用
【主权项】:
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