[发明专利]一种制备图案化氧化锌纳米线阵列的方法在审
申请号: | 202110555612.7 | 申请日: | 2021-05-21 |
公开(公告)号: | CN113415820A | 公开(公告)日: | 2021-09-21 |
发明(设计)人: | 许晓斌;方明赫;刘小诗 | 申请(专利权)人: | 同济大学 |
主分类号: | C01G9/02 | 分类号: | C01G9/02;C23C14/16;C23C14/18;C23C14/20;C23C14/35;B82Y40/00 |
代理公司: | 上海科盛知识产权代理有限公司 31225 | 代理人: | 吴文滨 |
地址: | 200092 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明涉及一种制备图案化氧化锌纳米线阵列的方法,包括以下步骤:1)在衬底表面制备晶种层;2)在晶种层表面涂覆光刻胶;3)将含有图案的掩膜板置于光刻胶层上,之后在紫外灯下曝光;4)移去掩膜板并用显影液对光刻胶层中未固化的光刻胶进行冲洗;5)将光刻后材料浸入氧化锌纳米线的生长前驱液中,进行氧化锌纳米线阵列的水热生长;6)除去光刻后材料表面剩余的光刻胶,即在衬底表面得到图案化氧化锌纳米线阵列。与现有技术相比,本发明利用光刻胶对衬底表面晶种层的选择性覆盖,实现了氧化锌纳米线阵列的图案化制备,该方法加工方便,成本低廉,可实现氧化锌纳米线阵列的大面积图案化制备。 | ||
搜索关键词: | 一种 制备 图案 氧化锌 纳米 阵列 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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