[发明专利]一种制备图案化氧化锌纳米线阵列的方法在审
申请号: | 202110555612.7 | 申请日: | 2021-05-21 |
公开(公告)号: | CN113415820A | 公开(公告)日: | 2021-09-21 |
发明(设计)人: | 许晓斌;方明赫;刘小诗 | 申请(专利权)人: | 同济大学 |
主分类号: | C01G9/02 | 分类号: | C01G9/02;C23C14/16;C23C14/18;C23C14/20;C23C14/35;B82Y40/00 |
代理公司: | 上海科盛知识产权代理有限公司 31225 | 代理人: | 吴文滨 |
地址: | 200092 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 制备 图案 氧化锌 纳米 阵列 方法 | ||
1.一种制备图案化氧化锌纳米线阵列的方法,其特征在于,该方法包括以下步骤:
1)在衬底表面制备晶种层;
2)在晶种层表面涂覆光刻胶,得到光刻胶层;
3)将含有图案的掩膜板置于光刻胶层上,之后在紫外灯下曝光;
4)移去掩膜板并用显影液对光刻胶层中未固化的光刻胶进行冲洗,得到光刻后材料;
5)将光刻后材料浸入氧化锌纳米线的生长前驱液中,进行氧化锌纳米线阵列的水热生长;
6)除去光刻后材料表面剩余的光刻胶,即在衬底表面得到图案化氧化锌纳米线阵列。
2.根据权利要求1所述的一种制备图案化氧化锌纳米线阵列的方法,其特征在于,步骤1)中,所述的衬底的材质为硅、氧化硅、玻璃、PMMA、PDMS或PVDF。
3.根据权利要求1所述的一种制备图案化氧化锌纳米线阵列的方法,其特征在于,步骤1)中,所述的晶种层为金属锌晶种层,采用磁控溅射的方法在衬底表面制备金属锌晶种层。
4.根据权利要求3所述的一种制备图案化氧化锌纳米线阵列的方法,其特征在于,所述的金属锌晶种层的厚度为30-80nm。
5.根据权利要求1所述的一种制备图案化氧化锌纳米线阵列的方法,其特征在于,步骤2)中,所述的光刻胶为正性光刻胶,光刻胶的涂覆方式为旋涂或喷涂。
6.根据权利要求1所述的一种制备图案化氧化锌纳米线阵列的方法,其特征在于,步骤3)中,所述的掩膜板的材质为铬,所述的掩膜板中图案的最小分辨率为1.8-2.2μm。
7.根据权利要求1所述的一种制备图案化氧化锌纳米线阵列的方法,其特征在于,步骤5)中,所述的氧化锌纳米线的生长前驱液为可溶性锌盐与六亚甲基四胺的混合水溶液。
8.根据权利要求7所述的一种制备图案化氧化锌纳米线阵列的方法,其特征在于,所述的混合水溶液中,锌离子的摩尔浓度为10-25mmol/L,可溶性锌盐与六亚甲基四胺的摩尔比为1:(1-1.5);所述的可溶性锌盐包括乙酸锌、氯化锌或硝酸锌中的一种或更多种。
9.根据权利要求1所述的一种制备图案化氧化锌纳米线阵列的方法,其特征在于,步骤5)中,水热生长的温度70-90℃,水热生长的时间1-3h。
10.根据权利要求1所述的一种制备图案化氧化锌纳米线阵列的方法,其特征在于,步骤6)中,采用丙酮浸泡的方式除去光刻后材料表面剩余的光刻胶。
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