[发明专利]基于磁光克尔效应的磁性晶圆大视野成像方法和成像装置在审
| 申请号： | 202110548994.0 | 申请日： | 2021-05-19 |
| 公开（公告）号： | CN113884443A | 公开（公告）日： | 2022-01-04 |
| 发明（设计）人： | 张学莹;赵巍胜;李绍新;孙蒲正 | 申请（专利权）人： | 北京航空航天大学;致真精密仪器(青岛)有限公司 |
| 主分类号： | G01N21/21 | 分类号： | G01N21/21 |
| 代理公司： | 北京华仁联合知识产权代理有限公司 11588 | 代理人： | 王希刚 |
| 地址： | 100083 北京市*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供了基于磁光克尔效应的磁性晶圆大视野成像方法和成像装置，所述方法包括以下内容：通过磁光克尔成像光路将磁性晶圆内部磁化状态在计算机上显示成像；具体为，所述磁光克尔成像光路包括偏振照明光路和偏振成像光路，先用偏振照明光路对磁性晶圆进行照射处理，偏振成像光路收集被磁性晶圆反射的光形成图像，成像光路将图像传送给计算机，计算机显示图像。本发明首次实现磁性晶圆大视野成像，可以提高对磁性晶圆性质的快速检测，尤其对磁性晶圆在工业领域的发展和应用具有重要意义。 | ||
| 搜索关键词： | 基于 克尔 效应 磁性 晶圆大 视野 成像 方法 装置 | ||
【主权项】：
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