[发明专利]基于磁光克尔效应的磁性晶圆大视野成像方法和成像装置在审
| 申请号: | 202110548994.0 | 申请日: | 2021-05-19 |
| 公开(公告)号: | CN113884443A | 公开(公告)日: | 2022-01-04 |
| 发明(设计)人: | 张学莹;赵巍胜;李绍新;孙蒲正 | 申请(专利权)人: | 北京航空航天大学;致真精密仪器(青岛)有限公司 |
| 主分类号: | G01N21/21 | 分类号: | G01N21/21 |
| 代理公司: | 北京华仁联合知识产权代理有限公司 11588 | 代理人: | 王希刚 |
| 地址: | 100083 北京市*** | 国省代码: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 基于 克尔 效应 磁性 晶圆大 视野 成像 方法 装置 | ||
1.基于磁光克尔效应的磁性晶圆大视野成像方法,其特征在于,所述方法包括以下内容:通过磁光成像光路将磁性晶圆内部磁化状态在计算机上显示成像,所述磁光克尔成像光路使用磁光克尔效应进行成像;具体为,所述磁光克尔成像光路包括偏振照明光路和偏振成像光路,先用偏振照明光路对磁性晶圆进行照射,所述偏振照明光路提供的照明光为线偏振光,偏振成像光路收集被磁性晶圆反射的光形成图像,所述偏振成像光路能够处理反射光携带的偏振信号,并对偏振状态进行空间分辨成像,偏振成像光路将图像传送给计算机,计算机显示图像。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于:所述偏振照明光路包括光源,起偏器,透镜元件;所述偏振成像光路包括检偏器,透镜组II和相机;
所述光源提供入射光,入射光依次通过起偏器,透镜元件,照射到磁性晶圆上,反射后的光依次通过检偏器,透镜组II和相机;或者,所述光源提供入射光,入射光依次通过透镜元件,起偏器,照射到磁性晶圆上,反射后的光依次通过检偏器,透镜组II和相机。
3.根据权利要求1或2所述的方法,其特征在于:所述计算机处理图像采用作差法,用于增强成像效果。
4.基于磁光克尔效应的磁性晶圆大视野成像装置,其特征在于:所述装置包括磁光克尔成像光路,磁性晶圆和计算机;所述磁光克尔成像光路包括偏振照明光路和偏振成像光路;
所述偏振照明光路,用于提供具有线偏振特性的入射光,对磁性晶圆进行照射处理;
所述偏振成像光路,用于收集被磁性晶圆反射的光,对反射光的偏振信息进行检偏处理并形成图像;
所述计算机,用于显示图像。
5.根据权利要求4所述的装置,其特征在于:所述偏振照明光路包括光源,起偏器,透镜元件;所述偏振成像光路包括检偏器,透镜组II和相机;
所述光源的一侧设置起偏器,起偏器的另一侧设置透镜元件,通过透镜元件的光照射到磁性晶圆上,磁性晶圆反射的光通过检偏器,所述检偏器的另一侧依次设置透镜组II和相机,所述相机和计算机连接;或者,所述光源的一侧设置透镜元件,透镜元件的另一侧设置起偏器,通过起偏器的光照射到磁性晶圆上,磁性晶圆反射的光通过检偏器,所述检偏器的另一侧依次设置透镜组II和相机,所述相机和计算机连接。
6.根据权利要求5所述的装置,其特征在于:所述起偏器和所述检偏器为可旋转设置或为固定设置。
7.一种根据权利要求4~6任意一项所述装置的使用方法,其特征在于,包括磁性晶圆上薄膜的磁化状态反转演示方法,具体步骤为:打开光源,计算机上显示磁性晶圆的图像,将磁铁靠近磁性晶圆远离磁光克尔成像光路的一侧,磁铁在与磁性晶圆对应的范围内运动时,计算机上显示磁铁运动路径;用磁铁的另一端靠近磁性晶圆,计算机显示磁性晶圆的成像恢复原状态。
8.权利要求4~6任一项所述的磁光克尔效应的磁性晶圆大视野成像装置的应用。
9.根据权利要求8所述的应用,其特征在于:所述应用具体为:将磁性晶圆至于磁场中,改变磁场的极性和强度,通过所述装置成像获得不同磁场下对应的磁性晶圆的磁性膜层的磁化状态信息,最终得到磁性晶圆全局的磁场-磁性层磁化强度对应关系。
10.根据权利要求8所述的应用,其特征在于:所述应用为用于教学演示、写字或画画。
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