[发明专利]一种小角度斜坡结构及其制作方法在审
| 申请号： | 202110548246.2 | 申请日： | 2021-05-19 |
| 公开（公告）号： | CN113277466A | 公开（公告）日： | 2021-08-20 |
| 发明（设计）人： | 陈思奇;焦继伟;费跃;刘京 | 申请（专利权）人： | 上海芯物科技有限公司 |
| 主分类号： | B81C1/00 | 分类号： | B81C1/00;B81B7/02 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人： | 孟金喆 |
| 地址： | 201800 上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明实施例公开了一种小角度斜坡结构及其制作方法。该方法通过刻蚀待处理基底结构，在待处理基底结构内形成至少一个凹槽，在至少一个凹槽内填充牺牲材料，使至少一个凹槽的表面与待处理基底结构的表面齐平，在待处理基底结构的表面沉积第一薄膜层，刻蚀第一薄膜层，在第一薄膜层上形成开窗，开窗在待处理基底结构的表面的垂直投影位于牺牲材料在待处理基底结构的表面的垂直投影中，通过开窗释放凹槽内填充的牺牲材料，形成与凹槽对应的空腔，在第一薄膜层上沉积第二薄膜层，并填充开窗，形成具有密闭空腔的平面结构，利用气压差挤压平面结构至变形并形成斜坡，实现了可控的小角度斜坡结构，提高斜坡结构的稳定性和生产效率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 角度 斜坡 结构 及其 制作方法 | ||
【主权项】：
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