[发明专利]包括具有高纯SP3键的CVD金刚石涂层的边缘环之类的部件在审
申请号: | 202110539388.2 | 申请日: | 2017-03-03 |
公开(公告)号: | CN113506719A | 公开(公告)日: | 2021-10-15 |
发明(设计)人: | 贾斯廷·查尔斯·卡尼夫 | 申请(专利权)人: | 朗姆研究公司 |
主分类号: | H01J37/32 | 分类号: | H01J37/32 |
代理公司: | 上海胜康律师事务所 31263 | 代理人: | 樊英如;张华 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 一种包括具有高纯SP3键的CVD金刚石涂层的边缘环之类的部件。一种用于等离子体处理系统的基座包括衬底支撑表面。环形边缘环围绕衬底支撑表面的周边布置。化学气相沉积(CVD)金刚石涂层布置在环形环的暴露于等离子体的表面上。CVD金刚石涂层包括sp3键。金刚石涂层中的sp3键的纯度大于90%。 | ||
搜索关键词: | 包括 具有 高纯 sp3 cvd 金刚石 涂层 边缘 之类 部件 | ||
【主权项】:
暂无信息
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