[发明专利]基板处理装置在审
| 申请号： | 202110512756.4 | 申请日： | 2021-05-11 |
| 公开（公告）号： | CN113658843A | 公开（公告）日： | 2021-11-16 |
| 发明（设计）人： | 李恒林;金旼永;朴志焄 | 申请（专利权）人： | 细美事有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人： | 张凯 |
| 地址： | 韩国忠清南道天安*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明构思的实施方案提供一种基板处理装置。该基板处理装置包括：下电极，其具有上表面，基板定位在所述上表面上；等离子体生成设备，其设置在所述下电极的上部处，具有上电极，且具有由多个分隔壁分隔的独立放电空间；和控制器，其执行控制以分别将反应气体独立地供应至所述独立放电空间中。 | ||
| 搜索关键词： | 处理 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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