[发明专利]一种双金属轴承内孔抛光过程中的抗氧化打磨设备在审

专利信息
申请号: 202110511365.0 申请日: 2021-05-11
公开(公告)号: CN113370061A 公开(公告)日: 2021-09-10
发明(设计)人: 陶震杰 申请(专利权)人: 嘉善三鼎机械股份有限公司
主分类号: B24B29/04 分类号: B24B29/04;B24B27/00;B24B41/06;B24B41/02;B24B41/00;B24B41/04;B24B47/12
代理公司: 浙江永航联科专利代理有限公司 33304 代理人: 樊岑遥
地址: 314100 浙江省嘉兴*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明涉及轴承制造技术领域,具体是涉及一种双金属轴承内孔抛光过程中的抗氧化打磨设备,包括:机架;承载位移机构,水平设置在机架上;夹持机构,固定安装在承载位移机构的输出端上,夹持机构上设有若干沿着承载位移机构竖直中心处环形设置的输出端;抛光加工机构,设置在机架上,位于承载位移机构的旁侧,抛光加工机构上设有若干组竖直设置的圆柱形工装,圆柱形工装与夹持机构的若干组输出端一一对应,圆柱形工装位于夹持机构的正上方,本发明所示的一种双金属轴承内孔抛光过程中的抗氧化打磨设备,能够同步加工多个双金属轴承产品,提高了工作效率,设备能够适应不同种类型的双金属轴承的加工操作,扩大了设备的加工范围,提高了实用性。
搜索关键词: 一种 双金属 轴承 抛光 过程 中的 氧化 打磨 设备
【主权项】:
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