[发明专利]一种双金属轴承内孔抛光过程中的抗氧化打磨设备

权利要求书

1.一种双金属轴承内孔抛光过程中的抗氧化打磨设备，其特征在于，包括：

机架(1)；

承载位移机构(2)，水平设置在机架(1)上，用于带动双金属轴承的承载机构水平位移；

夹持机构(3)，固定安装在承载位移机构(2)的输出端上，夹持机构(3)上设有若干沿着承载位移机构(2)竖直中心处环形设置的输出端，用于将若干个双金属轴承固定夹持在承载位移机构(2)上；

抛光加工机构(4)，设置在机架(1)上，位于承载位移机构(2)的旁侧，抛光加工机构(4)上设有若干组竖直设置的圆柱形工装(5)，圆柱形工装(5)与夹持机构(3)的若干组输出端一一对应，圆柱形工装(5)位于夹持机构(3)的正上方，用于对双金属轴承的内孔进行抛光加工操作。

2.根据权利要求1所述的一种双金属轴承内孔抛光过程中的抗氧化打磨设备，其特征在于，夹持机构(3)包括有承接板(6)、辅助定位组件和夹持组件，承接板(6)水平固定安装在承载位移机构(2)的输出端上，辅助定位组件竖直设置在承接板(6)的下方，夹持组件设有若干组，若干组夹持组件均水平安装在承接板(6)顶端，若干组夹持组件沿着承载位移机构(2)竖直中心处环形设置，若干组夹持组件与若干组夹持机构(3)一一对应。

3.根据权利要求2所述的一种双金属轴承内孔抛光过程中的抗氧化打磨设备，其特征在于，辅助定位组件包括有直线驱动器(7)、推板(8)和定位销(9)，直线驱动器(7)竖直固定安装在承载位移机构(2)的输出端上，直线驱动器(7)位于承接板(6)的正下方，推板(8)水平设置在直线驱动器(7)和承接板(6)之间，定位销(9)设有若干个，若干个定位销(9)与若干组夹持机构(3)一一对应，定位销(9)竖直固定安装在推板(8)顶端，承接板(6)上设有供定位销(9)升降的避让槽。

4.根据权利要求3所述的一种双金属轴承内孔抛光过程中的抗氧化打磨设备，其特征在于，定位销(9)的顶端为锥形端。

5.根据权利要求2所述的一种双金属轴承内孔抛光过程中的抗氧化打磨设备，其特征在于，夹持组件包括有双指气缸(10)和用于夹持圆柱外侧壁的夹持爪(11)，双指气缸(10)水平固定安装在承接板(6)的顶端一侧，夹持爪(11)设有两个，两个夹持爪(11)分别水平固定安装在双指气缸(10)的两个输出端上，两个夹持爪(11)相向设置。

6.根据权利要求5所述的一种双金属轴承内孔抛光过程中的抗氧化打磨设备，其特征在于，夹持爪(11)为V形夹头。

7.根据权利要求1所述的一种双金属轴承内孔抛光过程中的抗氧化打磨设备，其特征在于，抛光加工机构(4)包括有转台(12)、升降驱动装置(13)、升降板(14)、旋转驱动组件和卡接组件，转台(12)水平固定安装在机架(1)上，升降驱动装置(13)竖直固定安装在转台(12)的输出端上，升降板(14)水平设置在升降驱动装置(13)的输出端上，旋转驱动组件竖直设置在升降板(14)上，圆柱形工装(5)竖直安装在旋转驱动组件的输出端上，卡接组件设置在旋转驱动组件的输出端上，圆柱形工装(5)通过卡接组件与旋转驱动组件的输出端卡接。