[发明专利]一种高压JFET器件有效

专利信息
申请号: 202110475900.1 申请日: 2021-04-29
公开(公告)号: CN113517354B 公开(公告)日: 2023-04-28
发明(设计)人: 乔明;袁章亦安;李欣键;张波 申请(专利权)人: 电子科技大学
主分类号: H01L29/808 分类号: H01L29/808;H01L29/06
代理公司: 成都点睛专利代理事务所(普通合伙) 51232 代理人: 敖欢
地址: 611731 四川省成*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 发明提供一种高压JFET器件,包括p型衬底、n型漂移区、p型体区、p+区、第一p型降场层、第二p型降场层、n+有源区、n+漏区、场氧化层、n型漂移区、多晶硅栅;n型漂移区内部表面n+源区和p型体区之间包括多个可变掺杂区,多个可变掺杂区沿Y方向、或者X方向交替分布,相邻可变掺杂区之间为p型衬底,可变掺杂区为条形或块状;本发明在器件尺寸不变的前提下,在JFET中引入了一个稀释电阻区域,以减轻空间电荷调制效应,从而增大器件的开态击穿电压。
搜索关键词: 一种 高压 jfet 器件
【主权项】:
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