[发明专利]一种快照式套刻误差测量装置及其测量方法有效
| 申请号： | 202110470725.7 | 申请日： | 2021-04-29 |
| 公开（公告）号： | CN113219792B | 公开（公告）日： | 2022-07-19 |
| 发明（设计）人： | 陈修国;刘世元 | 申请（专利权）人： | 华中科技大学 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 华中科技大学专利中心 42201 | 代理人： | 刘洋洋 |
| 地址： | 430074 湖北*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明属于集成电路制造在线测量相关技术领域，其公开了一种快照式套刻误差测量装置及其测量方法，该方法包括：将探测光依次进行偏振延迟得到测量光谱；对所述测量光谱进行傅里叶分析获得所述测量光谱的频域信号并对所述频域信号进行分通道频域分析获得所述待测套刻样件的穆勒矩阵非对角元素的线性组合；对所述穆勒矩阵非对角元素的线性组合进行处理获得所述待测套刻样件的套刻误差。本申请无需对穆勒矩阵的全部16个元素都进行测量，只需要对套刻误差敏感的几个非对角穆勒矩阵元素进行测量即可，所涉及的载频通道少，可用于从可见光波段至红外波段宽光谱范围穆勒矩阵元素的快速测量。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 快照 式套刻 误差 测量 装置 及其 测量方法 | ||
【主权项】：
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