[发明专利]一种光学成像系统有效
| 申请号： | 202110454468.8 | 申请日： | 2021-04-26 |
| 公开（公告）号： | CN113219765B | 公开（公告）日： | 2022-04-22 |
| 发明（设计）人： | 罗建华 | 申请（专利权）人： | 深圳市华拓半导体技术有限公司 |
| 主分类号： | G03B15/02 | 分类号： | G03B15/02;G03B15/03;G03B15/06;G01N21/84;G01N21/01;H01L21/66 |
| 代理公司： | 北京维正专利代理有限公司 11508 | 代理人： | 黄勇;任志龙 |
| 地址： | 518100 广东省深圳市光明区*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本申请涉及光学检测的技术领域，尤其是涉及一种光学成像系统，包括支架，支架设有下罩体和拍摄装置，拍摄装置包括光源装置、激光发射器和多个成像组件；每一个成像组件均包括镜筒、相机和反射镜组；多个反射镜组分别以不同角度安装于支架；其中一个反射镜组的入光端所在平面的法线与激光发射器的激光发射路线所在直线呈一定角度。本申请有益效果1、通过设置多个成像组件，同步对被测物进行多个视角的拍摄成像，提高了检测效率，加快了对大批量的被测物进行外观检测的速度。2、通过设置激光发射器，让成像组件拍摄每一个被测物时，均能实现自动对焦，提高图像的清晰度，减少图像中的细节丢失。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光学 成像 系统 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳市华拓半导体技术有限公司，未经深圳市华拓半导体技术有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202110454468.8/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种核电厂金属部件环境促进疲劳寿命评估方法
- 下一篇：一种刀片生产用成型装置
