[发明专利]球差测试掩膜版及光刻机台的球差检测方法

摘要

本申请公开了一种球差测试掩膜版及光刻机台的球差检测方法，涉及半导体制造领域。该球差测试掩膜版上布满对应不同CD的球差测试标记，球差测试掩膜版的大小与待测光刻机台的最大曝光区域的大小相同；每个球差测试标记由第一测试子标记和第二测试子标记构成，第一测试子标记位于第二测试子标记的上方，第一测试子标记与第二测试子标记的形状相同，第一测试子标记的CD大于第二测试子标记的CD；测试子标记包括两类透光矩形条，第二类透光矩形条的上方和右侧分别设置有第一类透光矩形条；在第二测试子标记中第一类透光矩形条的关键尺寸与最小分辨率相同；解决了目前光刻机台的球差检测复杂的问题；达到了提高测量光刻机台球差的简便度的效果。