[发明专利]球差测试掩膜版及光刻机台的球差检测方法在审
| 申请号： | 202110440242.2 | 申请日： | 2021-04-21 |
| 公开（公告）号： | CN113204167A | 公开（公告）日： | 2021-08-03 |
| 发明（设计）人： | 栾会倩;吴长明;姚振海 | 申请（专利权）人： | 华虹半导体（无锡）有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/44 | 分类号： | G03F1/44;G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 | 代理人： | 罗雅文 |
| 地址： | 214028 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 测试 掩膜版 光刻 机台 检测 方法 | ||
1.一种球差测试掩膜版，其特征在于，所述球差测试掩膜版上布满对应不同CD的球差测试标记，所述球差测试掩膜版的大小与待测光刻机台的最大曝光区域的大小相同；
每个球差测试标记由第一测试子标记和第二测试子标记构成，所述第一测试子标记位于所述第二测试子标记的上方，所述第一测试子标记与所述第二测试子标记的形状相同，所述第一测试子标记的CD大于所述第二测试子标记的CD；
测试子标记包括第一类透光矩形条和第二类透光矩形条，所述第二类透光矩形条的上方设置有两个平行的第一类透光矩形条，所述第二类透光矩形条的右侧设置有两个平行的第一类透光矩形条，所述第二类透光矩形条的CD是所述第一类透光矩形条的CD的2倍以上；
在所述第二测试子标记中，所述第一类透光矩形条的CD与所述待测光刻机台的最小分辨率相同。
2.一种光刻机台的球差检测方法，其特征在于，所述方法包括：
在晶圆表面涂布光刻胶；
利用球差测试掩膜版和待测光刻机台对所述晶圆进行曝光；
对曝光后的晶圆进行显影；
利用套刻机台测量所述晶圆表面形成的测试图形的套刻值；
根据套刻值与焦距变化量之间的对应关系，确定所述待测光刻机台对应不同曝光位置的球差值；
其中，所述球差测试掩膜版上布满对应不同CD的球差测试标记，所述球差测试掩膜版的大小与待测光刻机台的最大曝光区域的大小相同；
每个球差测试标记由第一测试子标记和第二测试子标记构成，所述第一测试子标记位于所述第二测试子标记的上方，所述第一测试子标记与所述第二测试子标记的形状相同，所述第一测试子标记的CD大于所述第二测试子标记的CD；
测试子标记包括第一类透光矩形条和第二类透光矩形条，所述第二类透光矩形条的上方设置有两个平行的第一类透光矩形条，所述第二类透光矩形条的右侧设置有两个平行的第一类透光矩形条，所述第二类透光矩形条的CD是所述第一类透光矩形条的CD的2倍以上；
在所述第二测试子标记中，所述第一类透光矩形条的CD与所述待测光刻机台的最小分辨率相同。
3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述方法还包括：
获取套刻值与焦距变化量之间的对应关系。
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G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
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