[发明专利]一种大口径平行平晶厚度分布的干涉测量方法有效
申请号: | 202110410048.X | 申请日: | 2021-04-16 |
公开(公告)号: | CN112857238B | 公开(公告)日: | 2022-11-29 |
发明(设计)人: | 海阔;曾靖超;李凯隆;陈玉川;樊伟;张云飞 | 申请(专利权)人: | 中国工程物理研究院机械制造工艺研究所 |
主分类号: | G01B11/06 | 分类号: | G01B11/06 |
代理公司: | 成都行之专利代理事务所(普通合伙) 51220 | 代理人: | 林菲菲 |
地址: | 621000*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | 本发明公开了一种大口径平行平晶厚度分布的干涉测量方法,包括测量待测平晶的a面面形数据和b面面形数据;将测量得到的a面面形数据进行左右镜像处理,并将处理后的面形数据进行Zernike多项式拟合处理,得到a面面形数据的拟合多项式;将测量得到的b面面形数据进行多项式拟合处理,得到b面面形数据的拟合多项式;提取得到待测平晶a面的装调误差,对a面的装调误差镜像取反则为待测平晶b面的装调误差;将拟合多项式减去装调误差,得到待测平晶的像差;从而得到待测平晶厚度均匀性的误差分布。本发明能够实现大型光学元件的厚度分布检测,从而为后续超精密加工修行提供技术支撑。 | ||
搜索关键词: | 一种 口径 平行 厚度 分布 干涉 测量方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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