[发明专利]一种大口径平行平晶厚度分布的干涉测量方法

权利要求书

1.一种大口径平行平晶厚度分布的干涉测量方法，其特征在于，包括以下步骤：

步骤S1，测量待测平晶的a面面形数据和b面面形数据；其中，待测平晶的a面面形PV优于b面面形PV，且a面和b面面形均满足：PV1λ@632.8nm，RMS0.1λ@632.8nm；

步骤S2，将测量得到的a面面形数据进行左右镜像处理，并将处理后的面形数据进行Zernike多项式拟合处理，得到a面面形数据的Zernike拟合多项式；将测量得到的b面面形数据进行Zernike多项式拟合处理，得到b面面形数据的Zernike拟合多项式；

步骤S3，从a面面形数据拟合多项式提取得到待测平晶a面的装调误差，由于a面面形PV优于b面面形PV，则以a面的装调误差作为待测平晶的装调误差，对a面的装调误差镜像取反则为待测平晶b面的装调误差；

步骤S4，将a面的拟合多项式减去a面装调误差，得到待测平晶a面的seidel像差；将b面的拟合多项式减去b面装调误差，得到待测平晶b面的seidel像差；

步骤S5，将待测工件两表面的seidel像差相加则可得到待测平晶厚度均匀性的误差分布。

2.根据权利要求1所述的干涉测量方法，其特征在于，所述步骤S1采用的测量装置包括2台激光干涉仪、调整装置。

3.根据权利要求2所述的干涉测量方法，其特征在于，所述步骤S1的测量过程具体包括：

将一台激光干涉仪a的镜头正对另一台激光干涉仪b，进行所述激光干涉仪a和激光干涉仪b的互相标定，使得所述激光干涉仪a产生的激光垂直于所述激光干涉仪b的镜头表面；

将待测平晶安装在固定装置上，且待测平晶的a面对准所述激光干涉仪a的方向，b面对准所述激光干涉仪b的方向；

调整待测平晶的姿态，使激光干涉仪a与激光干涉仪b能够同时测量待测平晶的表面面形数据。

4.根据权利要求3所述的干涉测量方法，其特征在于，所述激光干涉仪a和激光干涉仪b的标定过程为：

将激光干涉仪b作为标准镜，采用激光干涉仪a测量激光干涉仪b镜头的面形，当所测标准镜面形条纹数为0时，则激光干涉仪a产生的激光垂直于所述激光干涉仪b的镜头表面，即可完成所述激光干涉仪a和激光干涉仪b的互相标定。

5.根据权利要求1所述的干涉测量方法，其特征在于，所述步骤S1采用的测量装置包括一台激光干涉仪、分光镜、2个孔径光阑、2个标准镜和3个反射镜；所述步骤S1的测量过程具体包括：

进行测量装置的安装调整：激光干涉仪产生的激光经分光镜分光透过第一孔径光阑进入第一标准镜的出射处表面，调整所述第一标准镜，使所述激光干涉仪测量产生的光点在测量范围内，完成所述第一标准镜的安装调整；在距离所述第一标准镜预设位置处安装第二标准镜，且第一标准镜和第二标准镜保持平行状态；3个反射镜与光路呈45°夹角安装，使所述激光干涉仪产生的激光能经分光镜分光透过第二孔径光阑，依次经过3个反射镜，垂直入射到第二标准镜中；

进行测量装置的光路标定：打开第二孔径光阑，关闭第一孔径光阑，激光干涉仪产生的激光通过分光镜透过第二孔径光阑后依次经过3个45°反射镜后，以第二标准镜作为所述激光干涉仪的标准参考镜对第一标准镜进行测量，通过调整3个反射镜的姿态，直到测量产生的干涉条纹为0；

将调整装置以及待测平晶安装在测量装置中，并对待测平晶的姿态进行调整使得待测平晶的a面能够与第一标准镜发生干涉的同时，待测平晶的b面能够与第二标准镜发生干涉；

进行待测平晶的表面面形数据测量。

6.根据权利要求5所述的干涉测量方法，其特征在于，通过以下过程确保第一标准镜和第二标准镜平行：以第一标准镜作为激光干涉仪的标准参考镜对第二标准镜进行测量，调整第二标准镜的姿态，直到测量产生的干涉条纹为0。