[发明专利]氮化镓半导体结构、Micro LED器件及制备方法有效

专利信息
申请号: 202110363036.6 申请日: 2021-04-02
公开(公告)号: CN113097352B 公开(公告)日: 2022-03-08
发明(设计)人: 欧欣;石航宁;刘仁杰;游天桂 申请(专利权)人: 中国科学院上海微系统与信息技术研究所;浙江中科尚弘离子装备工程有限公司
主分类号: H01L33/00 分类号: H01L33/00;H01L33/32;H01L21/762
代理公司: 上海光华专利事务所(普通合伙) 31219 代理人: 余明伟
地址: 200050 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明提供一种氮化镓半导体结构、Micro LED器件及制备方法,氮化镓半导体结构包括基底、第二介质层、第一介质层及氮化镓单晶薄膜,第一介质层中具有第一凹槽,氮化镓单晶薄膜中具有第二凹槽,且第一凹槽及第二凹槽相连通。本发明通过剥离法获得氮化镓单晶薄膜,相对于传统异质外延法获得的氮化镓单晶薄膜,具有更高的晶体质量,以及显著降低的缺陷及位错密度;直接采用同质外延法形成分立的Micro LED外延结构,制备工艺简化,可避免芯片分离工艺中对外延结构造成的损伤,使器件性能更优异;可直接在基底中制备驱动电路,从而无需进行巨量转移,简化工艺,以及工艺难度和成本显著降低。
搜索关键词: 氮化 半导体 结构 micro led 器件 制备 方法
【主权项】:
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