[发明专利]半导体装置在审

专利信息
申请号: 202110334753.6 申请日: 2021-03-29
公开(公告)号: CN113809069A 公开(公告)日: 2021-12-17
发明(设计)人: 黄禹轩;蔡庆威;李介文;陈国基;程冠伦 申请(专利权)人: 台湾积体电路制造股份有限公司
主分类号: H01L27/06 分类号: H01L27/06
代理公司: 隆天知识产权代理有限公司 72003 代理人: 王宇航;黄艳
地址: 中国台*** 国省代码: 台湾;71
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摘要: 本公开提供半导体装置的一些实施例。本公开依据一些实施例提供的半导体装置包含细长的半导体构件,细长的半导体构件沿着第一方向纵向延伸并且被隔离特征环绕。半导体装置还包含第一源极/漏极特征以及第二源极/漏极特征,前述特征位于细长半导体构件的顶部表面上方、垂直堆叠的通道构件,前述通道构件各沿着第一方向纵向延伸在第一源极/漏极特征以及第二源极/漏极特征之间、环绕在该垂直通道构件的栅极结构、设置在细长的半导体构件的底部表面之下的外延层、位于该细长半导体构件的硅化物层、以及设置在硅化物层上的导电层。
搜索关键词: 半导体 装置
【主权项】:
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