[发明专利]一种双面光刻的光刻系统及光刻方法在审
| 申请号： | 202110325465.4 | 申请日： | 2021-03-26 |
| 公开（公告）号： | CN115128908A | 公开（公告）日： | 2022-09-30 |
| 发明（设计）人： | 张飞飞;李伟成;张雷 | 申请（专利权）人： | 源能智创（江苏）半导体有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F9/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 215399 江苏省苏州市昆山市玉*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 一种双面光刻的光刻系统及方法，所述光刻系统包括第一载台、第二载台、光刻机构和控制器，基底正面向上放置于所述第一载台，基底背面向上放置于所述第二载台，光刻机构对基底进行光刻操作，所述控制器控制所述第一载台、所述第二载台和所述光刻机构，所述第一载台设置有第一图像获取装置，基底放置于第一载台时，获取所述基底背面的第一图像，所述第二载台上方设置第二图像获取装置，所述第二图像获取装置依据所述第一图像在所述基底背面的位置获取第二图像。基于第一图像和第二图像实现基底正面和背面图形的对准，利用图像信息作为标志点信息，对位精度更高。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 双面 光刻 系统 方法 | ||
【主权项】：
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