[发明专利]硅片清洗剂及制备方法和硅片清洗工艺在审
| 申请号： | 202110324141.9 | 申请日： | 2021-03-26 |
| 公开（公告）号： | CN113046191A | 公开（公告）日： | 2021-06-29 |
| 发明（设计）人： | 马琦雯;邓舜 | 申请（专利权）人： | 常州时创能源股份有限公司 |
| 主分类号： | C11D1/72 | 分类号： | C11D1/72;C11D3/04;C11D3/30;C11D3/33;B08B3/12;H01L21/02;H01L31/18 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 213300 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种硅片清洗剂及制备方法和硅片清洗工艺，所述硅片清洗剂由如下质量百分比的各组分制成：无机碱2~6%，氮川三乙酸三钠2~6%，牛油脂肪醇聚氧乙烯醚0.5~6%，十二烷基三甲基氯化铵2~6%，余量为纯水。本发明的硅片清洗剂，能够快速地清洗掉硅片表面吸附的硅粉，而且清洗后硅片表面残留的清洗剂很少；本发明的硅片清洗工艺，使得清洗后硅片表面残留的有机物少，大大提高了硅片的外观合格率，提升了硅片的表面质量，所制成的太阳能电池的转换效率提高了0.03~0.05%。 | ||
| 搜索关键词： | 硅片 洗剂 制备 方法 清洗 工艺 | ||
【主权项】：
暂无信息
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