[发明专利]一种混合式磁聚焦透镜电子束成像系统有效

专利信息
申请号: 202110318828.1 申请日: 2021-03-25
公开(公告)号: CN113192814B 公开(公告)日: 2022-04-19
发明(设计)人: 王峰;蔡厚智;刘进元 申请(专利权)人: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心;深圳大学
主分类号: H01J37/04 分类号: H01J37/04;H01J37/141;H01J37/26
代理公司: 华进联合专利商标代理有限公司 44224 代理人: 纪婷婧
地址: 621000*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 发明涉及一种混合式磁聚焦透镜电子束成像系统。该系统中光电阴极、阳极栅网、门控微通道板和CCD摄像模块依次同轴排列,光电阴极和阳极栅网紧邻设置,门控微通道板和CCD摄像模块紧邻设置,阳极栅网和门控微通道板间隔预设飞行距离;两个短磁透镜分别放置在光电阴极和门控微通道板处,四个长磁透镜均匀放置在阳极栅网和门控微通道板间隔的电子漂移区。本发明的平面光电阴极经混合式磁透镜成像后,像面也是一个平面,从而提高其空间分辨率均匀性,使得轴上点和轴外点空间分辨率一致。
搜索关键词: 一种 混合式 聚焦 透镜 电子束 成像 系统
【主权项】:
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