[发明专利]蒸镀掩模的制作方法有效
| 申请号： | 202110301035.9 | 申请日： | 2021-03-22 |
| 公开（公告）号： | CN113493893B | 公开（公告）日： | 2023-08-01 |
| 发明（设计）人： | 木村辽太郎;西之原拓磨 | 申请（专利权）人： | 株式会社日本显示器 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/24;C23C16/44;C25D3/12;C25D3/02;H10K71/16 |
| 代理公司： | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人： | 邸万杰 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 对于蒸镀掩模单元的制作，要求除了高精度地形成高精细的图案以外，还不产生缺陷图案的技术。本发明的蒸镀掩模的制作方法包括：在第1支承基板的第1面的内侧区域，以第1膜厚形成第1抗蚀剂掩模的步骤，在形成有第1抗蚀剂掩模的第1面上，以第1膜厚以下的第2膜厚形成剥离层的步骤，除去第1抗蚀剂掩模的步骤，在剥离层上配置覆盖剥离层且端部扩展至剥离层的外侧的感光性抗蚀剂膜的步骤，与感光性抗蚀剂膜紧贴地设置第2支承基板的步骤，将第1支承基板从剥离层分离，使感光性抗蚀剂膜和剥离层留存在第2支承基板上的步骤，将超出剥离层的感光性抗蚀剂膜除去的步骤，将感光性抗蚀剂膜的端面曝光的步骤，在剥离层上形成蒸镀掩模图案的步骤。 | ||
| 搜索关键词： | 蒸镀掩模 制作方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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