[发明专利]蒸镀掩模的制作方法

说明书

对于蒸镀掩模单元的制作，要求除了高精度地形成高精细的图案以外，还不产生缺陷图案的技术。本发明的蒸镀掩模的制作方法包括：在第1支承基板的第1面的内侧区域，以第1膜厚形成第1抗蚀剂掩模的步骤，在形成有第1抗蚀剂掩模的第1面上，以第1膜厚以下的第2膜厚形成剥离层的步骤，除去第1抗蚀剂掩模的步骤，在剥离层上配置覆盖剥离层且端部扩展至剥离层的外侧的感光性抗蚀剂膜的步骤，与感光性抗蚀剂膜紧贴地设置第2支承基板的步骤，将第1支承基板从剥离层分离，使感光性抗蚀剂膜和剥离层留存在第2支承基板上的步骤，将超出剥离层的感光性抗蚀剂膜除去的步骤，将感光性抗蚀剂膜的端面曝光的步骤，在剥离层上形成蒸镀掩模图案的步骤。

技术领域

本发明的一个实施方式涉及蒸镀掩模的制作方法。例如，涉及在有机电致发光元件的制作中，在形成发光层等时使用的蒸镀掩模的制作方法。

背景技术

真空蒸镀法作为薄膜制作技术之一为人们所知。真空蒸镀法是如下所述的技术：通过在高真空下对材料进行加热，使材料升华或蒸发(下面，将升华和蒸发统称为气化)而生成材料的蒸气，通过使该蒸气在目标区域(下面，称为蒸镀区域)固化、堆积而形成材料的薄膜。在真空蒸镀法中，为了使得有选择地在期望的区域形成材料的薄膜，而在该期望的区域以外的区域不形成薄膜，使用金属制的掩模(参照专利文献1、2)。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2009-87840号公报

专利文献2：日本特开2013-209710号公报

发明内容

发明要解决的技术问题

在像素由有机电致发光元件(下面，也称为“有机EL元件”)形成的显示装置(下面，也称为“有机EL显示装置”)的制造工序中，为了形成有机EL元件，可使用真空蒸镀法。为了按每个像素形成有机EL元件的发光层，可使用具有与像素尺寸和间距相应的微细的开口图案的真空蒸镀用的蒸镀掩模。此时，当在蒸镀掩模中例如存在本来应该开口的部分被堵塞等缺陷时，该缺陷会直接成为有机EL显示装置的像素的缺陷而成为问题。因此，对于蒸镀掩模的制作，要求除了高精度地形成高精细的图案以外，还不产生缺陷图案的技术。

用于解决技术问题的手段

本发明的一个实施方式的蒸镀掩模的制作方法包括：在第1支承基板的第1面的内侧区域，以第1膜厚形成第1抗蚀剂掩模的步骤，在形成有第1抗蚀剂掩模的第1面上，以第1膜厚以下的第2膜厚形成剥离层的步骤，除去第1抗蚀剂掩模的步骤，在剥离层上配置覆盖剥离层且端部扩展至剥离层的外侧的感光性抗蚀剂膜的步骤，与感光性抗蚀剂膜紧贴地设置第2支承基板的步骤，将第1支承基板从剥离层分离，使感光性抗蚀剂膜和剥离层留存在第2支承基板上的步骤，将超出剥离层的感光性抗蚀剂膜除去的步骤，将感光性抗蚀剂膜的端面曝光的步骤，和在剥离层上形成蒸镀掩模图案的步骤。

附图说明

图1表示由本发明一个实施方式的方法制作的蒸镀掩模单元的示意性平面图。

图2表示沿着图1所示的A1-A2线的截面结构。

图3A是表示制作本发明一个实施方式的蒸镀掩模的方法的示意性截面图。

图3B是表示制作本发明一个实施方式的蒸镀掩模的方法的示意性截面图。

图3C是表示制作本发明一个实施方式的蒸镀掩模的方法的示意性截面图。

图4A是表示制作本发明一个实施方式的蒸镀掩模的方法的示意性截面图。

图4B是表示制作本发明一个实施方式的蒸镀掩模的方法的示意性截面图。

图5A是表示制作本发明一个实施方式的蒸镀掩模的方法的示意性截面图。