[发明专利]一种在透射电子显微镜中测试材料霍尔/反常霍尔效应的方法有效
申请号: | 202110295694.6 | 申请日: | 2021-03-19 |
公开(公告)号: | CN113125474B | 公开(公告)日: | 2022-05-20 |
发明(设计)人: | 车仁超;裴科;杨利廷;张瑞轩;杨辰迪;张捷 | 申请(专利权)人: | 复旦大学 |
主分类号: | G01N23/04 | 分类号: | G01N23/04;G01N23/20058;G01N23/20008;G01N1/28 |
代理公司: | 上海科盛知识产权代理有限公司 31225 | 代理人: | 刘燕武 |
地址: | 200433 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明涉及一种在透射电子显微镜中测试材料霍尔/反常霍尔效应的方法,包括以下步骤:(1)选取微纳尺度测试样品与原位测试芯片连接固定,得到样品/芯片器件;(2)将样品/芯片器件置于原位测试样品杆中,再插入透射电子显微镜中;(3)对样品/芯片器件所在区域施加磁场,并对样品/芯片器件通入电流,在透射电子显微镜同步观察过程中获取霍尔/反常霍尔效应相关数据,即完成。与现有技术相比,本发明实现了在透射电子显微镜原位测试平台中,对材料形貌/磁畴结构和输运特性的同步观察。 | ||
搜索关键词: | 一种 透射 电子显微镜 测试 材料 霍尔 反常 效应 方法 | ||
【主权项】:
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