[发明专利]基于参数化单元的掩模信息处理方法有效
| 申请号： | 202110243421.7 | 申请日： | 2021-03-05 |
| 公开（公告）号： | CN112906336B | 公开（公告）日： | 2022-07-26 |
| 发明（设计）人： | 谢光益;郎丰涛;李起宏;张通;王柯 | 申请（专利权）人： | 北京华大九天科技股份有限公司 |
| 主分类号： | G06F30/392 | 分类号： | G06F30/392;G06F16/51;G06F16/901;G06F16/53;G06F111/20 |
| 代理公司： | 北京成创同维知识产权代理有限公司 11449 | 代理人： | 岳丹丹 |
| 地址： | 100102 北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本公开涉及集成电路技术领域，提供了一种基于参数化单元的掩模信息处理方法，其首先通过获取数据库中半导体器件的参数化单元的图形数据，该参数化单元的图形数据包括前述半导体器件在不同结构层的工艺图形信息；其次根据该参数化单元的图形数据构建处理图形掩模信息的模板，前述模板用于查找需要处理掩模信息的工艺图形；而后确定需要处理掩模信息的工艺图形，并根据前述模板的模板参数给该图形设定相应的掩模信息，其中，前述模板参数包括结构层信息、图形坐标信息以及前述掩膜信息。由此可有效减少数据规模，降低了存储空间的占用面积，同时减少了重复开发参数化单元的次数，提升了第三方编辑工具多层掩模的设计效率。 | ||
| 搜索关键词： | 基于 参数 单元 信息处理 方法 | ||
【主权项】：
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